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專利資訊
正型雙層壓印微影方法及用於其之組成物
分子壓模公司
申請案號
093107963
公告號
200502106
申請日期
2004-03-24
申請人
分子壓模公司
發明人
史瑞尼瓦森 思蓋塔V
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
B44C1/22
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