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用於化學機械平面化之可訂製拋光墊

美商CMC材料有限責任公司

申請案號
093108134
公告號
200505635
申請日期
2004-03-25
申請人
美商CMC材料有限責任公司
發明人
蘇漢須 米斯拉
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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用於化學機械平面化之可訂製拋光墊 - 專利資訊 | NowTo 智財通