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IPC C09K13/06 專利列表

共 2 筆結果

蝕刻用或清洗用溶液的製造方法

大金工業股份有限公司

案號 0931067302004-03-12IPC C09K13/06

用於氧化膜之化學機械拋光（CMP）漿液/及以其形成半導體裝置之方法

海力士半導體股份有限公司

案號 0911381182002-12-31IPC C09K13/06

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