IPC C23C14/14 專利列表
共 21 筆結果
以區域方式塗佈一隔離劑所用之方法和裝置
應用材料兩合股份有限公司
案號 0931076472004-03-22IPC C23C14/14
逆衝式鍍覆組成物及方法
希普列公司
案號 0921360712003-12-19IPC C23C14/14
鎳合金濺鍍靶
ＪＸ金屬股份有限公司
案號 0921280622003-10-09IPC C23C14/14
一種利用物理氣相沉積鋁改善α２-鈦鋁介金屬之高溫耐氧化性
國家中山科學研究院
案號 0921226702003-08-15IPC C23C14/14
以銀為底質之合金薄膜及用於形成該以銀為底質之合金薄膜的濺射標的物
神戶製鋼所股份有限公司
案號 0921216892003-08-07IPC C23C14/14
超細微-晶粒-銅基濺擊標靶
普雷瑟技術股份有限公司
案號 0921195782003-07-17IPC C23C14/14
銀合金濺鍍靶與其製造方法
鋼臂功科研股份有限公司
案號 0921170082003-06-23IPC C23C14/14
濺鍍靶材
石福金屬興業股份有限公司
案號 0921142072003-05-27IPC C23C14/14
複合蒸鍍材料與由其所形成之複合蒸鍍膜
日立金屬股份有限公司
案號 0921137452003-05-21IPC C23C14/14
矽基板或矽濺鍍靶及其等之製造方法
日鑛材料股份有限公司
案號 0921134492003-05-19IPC C23C14/14
具氧化及疲勞耐受性的金屬塗層
聯合工藝公司
案號 0921100132003-04-29IPC C23C14/14
光記錄媒體的反射層形成用銀合金濺射靶
三菱綜合材料股份有限公司
案號 0921056762003-03-14IPC C23C14/14
以雷射蒸發及凝結而製成的銅及/或鋅合金奈米粉末
菲利浦莫里斯製品股份有限公司
案號 0921022552003-01-30IPC C23C14/14
模鑄濺鍍靶材
哈尼威爾國際公司
案號 0921000502003-01-02IPC C23C14/14
形成於物件表面之抗菌性鍍膜及其製造方法
財團法人金屬工業研究發展中心
案號 0911380412002-12-31IPC C23C14/14
相變化型記憶體用濺鍍靶及其製造方法
ＪＸ金屬股份有限公司
案號 0911356562002-12-10IPC C23C14/14
銅合金濺鍍靶及該靶之製造方法
ＪＸ金屬股份有限公司
案號 0911355202002-12-09IPC C23C14/14
高純度鎳或鎳合金濺鍍靶及其製造方法
日鑛材料股份有限公司
案號 0911355212002-12-09IPC C23C14/14
高純度鋁濺射靶
普雷瑟技術股份有限公司
案號 0911331552002-11-12IPC C23C14/14
介電材料組成物
財團法人工業技術研究院
案號 0911329252002-11-08IPC C23C14/14