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IPC H01L29/20 專利列表

共 2 筆結果

閘流體構造及其製造方法

力特康可電子股份有限公司

案號 0931001922004-01-06IPC H01L29/20

用於製造非平面之以氮化物為主之半導體結構的方法

ＨＲＬ實驗有限公司

案號 0921253622003-09-15IPC H01L29/20

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