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藉由磁化板電漿源中之化學氣相沉積於金屬基板上形成氮化鈦薄膜

亨利J 瑞摩斯

申請案號
091132002
公告號
200303575
申請日期
2002-10-28
申請人
亨利J 瑞摩斯
發明人
亨利J 瑞摩斯
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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藉由磁化板電漿源中之化學氣相沉積於金屬基板上形成氮化鈦薄膜 - 專利資訊 | NowTo 智財通