IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
圖案微細化用被覆形成劑及使用該形成劑形成微細圖案的方法
東京應化工業股份有限公司
申請案號
091132603
公告號
200300270
申請日期
2002-11-05
申請人
東京應化工業股份有限公司
發明人
菅田祥樹
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/027
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
圖案微細化用被覆形成劑及使用該形成劑形成微細圖案的方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通