IPC H01L21/027 專利列表
共 282 筆結果
基板搬運系統
平田機工股份有限公司
案號 0931084172004-03-26IPC H01L21/027
光罩基底之製造方法
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0931082222004-03-26IPC H01L21/027
半導體晶圓之熱處理裝置及熱處理方法
新力股份有限公司
案號 0931064722004-03-11IPC H01L21/027
微影裝置，元件製造方法及依此製造之元件
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931062602004-03-09IPC H01L21/027
光罩基底製造方法
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0931058372004-03-05IPC H01L21/027
自我對準埋入接觸窗對以及其形成方法
三星電子股份有限公司
案號 0931048842004-02-26IPC H01L21/027
平台裝置及曝光裝置
尼康股份有限公司
案號 0931045362004-02-24IPC H01L21/027
曝光用圖案或光罩之檢查方法、其製造方法、及曝光用圖案或光罩
新力股份有限公司
案號 0931043202004-02-20IPC H01L21/027
利用極化光之微影印刷
艾斯摩控股股份有限公司
案號 0931043152004-02-20IPC H01L21/027
於一晶圓上使用一衰減的相移光罩而圖樣化光阻之方法
恩智浦美國公司
案號 0931043132004-02-20IPC H01L21/027
反射式投影光學系統
佳能股份有限公司
案號 0931043082004-02-20IPC H01L21/027
顯像裝置及顯像方法
日商新創機電科技股份有限公司
案號 0931039372004-02-18IPC H01L21/027
利用具有多層抗反射層之反射光罩將光阻圖案化於晶圓上之方法
飛思卡爾半導體公司
案號 0931039432004-02-18IPC H01L21/027
線內式處理裝置
東京應化工業股份有限公司
案號 0931028252004-02-06IPC H01L21/027
反向感光壓印圖案轉移製程
國立成功大學
案號 0931025982004-02-05IPC H01L21/027
光罩處理裝置、光罩處理方法、程式及光罩
新力股份有限公司
案號 0931025062004-02-04IPC H01L21/027
顯示裝置之製作方法
半導體能源研究所股份有限公司
案號 0931025452004-02-04IPC H01L21/027
照射光學系統與曝光設備
佳能股份有限公司
案號 0931020132004-01-29IPC H01L21/027
照明光學系統及曝光裝置
佳能股份有限公司
案號 0931020162004-01-29IPC H01L21/027
形成反光圖案之方法及其製品
宏僑科技股份有限公司
案號 0931018492004-01-28IPC H01L21/027