IP

用於物理氣相沉積之金屬化銦錫氧化物靶

財團法人金屬工業研究發展中心

申請案號
091132637
公告號
200407978
申請日期
2002-11-01
申請人
財團法人金屬工業研究發展中心
發明人
朱繼文
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/203
查看申請人公司資訊

本站使用 Cookie 進行流量分析，以提供更好的使用體驗。

用於物理氣相沉積之金屬化銦錫氧化物靶 - 專利資訊 | NowTo 智財通