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發熱體化學氣相沉積（ＣＶＤ）裝置及使用該裝置之發熱體化學氣相沉積方法

安內華股份有限公司

申請案號
091133289
公告號
200300271
申請日期
2002-11-13
申請人
安內華股份有限公司
發明人
柄澤稔
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/205
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發熱體化學氣相沉積（ＣＶＤ）裝置及使用該裝置之發熱體化學氣相沉積方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通