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半導體晶圓表面保護用黏著膜及使用該黏著膜之半導體晶圓之背面加工方法

三井化學東賽璐股份有限公司

申請案號
091135933
公告號
200301929
申請日期
2002-12-12
申請人
三井化學東賽璐股份有限公司
發明人
福本英樹
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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半導體晶圓表面保護用黏著膜及使用該黏著膜之半導體晶圓之背面加工方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通