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專利資訊
半導體製造裝置之清淨用氣體與清淨方法
昭和電工股份有限公司
申請案號
091136000
公告號
200301932
申請日期
2002-12-12
申請人
昭和電工股份有限公司
發明人
大野博基
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/306
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