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減少半導體元件產生淺溝渠隔離凹陷效應之方法

上海宏力半導體製造有限公司

申請案號
091136079
公告號
200410359
申請日期
2002-12-13
申請人
上海宏力半導體製造有限公司
發明人
蔡孟錦
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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