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用於氮化鈦原子層沉積之反應室硬體設計

應用材料股份有限公司

申請案號
091137065
公告號
200301506
申請日期
2002-12-23
申請人
應用材料股份有限公司
發明人
安哈N 恩蓋葉
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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用於氮化鈦原子層沉積之反應室硬體設計 - 專利資訊 | NowTo 智財通