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具有包括由溝槽蝕刻及離子佈植所形成的摻雜列的電壓維持區域的高電壓功率MOSFET

通用半導體股份有限公司

申請案號
091137178
公告號
200301525
申請日期
2002-12-24
申請人
通用半導體股份有限公司
發明人
理查 布蘭查
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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具有包括由溝槽蝕刻及離子佈植所形成的摻雜列的電壓維持區域的高電壓功率MOSFET - 專利資訊 | NowTo 智財通