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具有電壓保持區域之高電壓功率金屬氧化半導體場效電晶體(MOSFET)的製造方法,該電壓保持區域包含藉由快速擴散所形成之摻雜柱狀物
通用半導體股份有限公司
申請案號
091137179
公告號
200301526
申請日期
2002-12-24
申請人
通用半導體股份有限公司
發明人
理查 布蘭查
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/336
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