IP

先進線後端互連結構中之雙層高密度電漿化學蒸氣沉積/電漿增進化學蒸氣沉積蓋罩及其方法

萬國商業機器公司

申請案號
092100521
公告號
200401339
申請日期
2003-01-10
申請人
萬國商業機器公司
發明人
陳子章
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。

先進線後端互連結構中之雙層高密度電漿化學蒸氣沉積/電漿增進化學蒸氣沉積蓋罩及其方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通