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專利資訊
形成含矽絕緣膜之CVD方法及裝置
東京威力科創股份有限公司
申請案號
092100723
公告號
200302294
申請日期
2003-01-14
申請人
東京威力科創股份有限公司
發明人
熊谷武司
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C23C16/30
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