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用於化學機械拋光(CMP)之經正電性聚電解質處理之陰離子性研磨粒子

美商ＣＭＣ材料股份有限公司

申請案號
092101952
公告號
200302865
申請日期
2003-01-29
申請人
美商ＣＭＣ材料股份有限公司
發明人
艾西　Ｋ　千瑞
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

C09K3/14
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用於化學機械拋光(CMP)之經正電性聚電解質處理之陰離子性研磨粒子 - 專利資訊 | NowTo 智財通