IPC C09K3/14 專利列表
共 62 筆結果
用於化學-機械式拋光方法之漿體組成物
巴斯夫歐洲公司
案號 0931071242004-03-17IPC C09K3/14
鈰系研磨材料
三井金屬鑛業股份有限公司
案號 0931045592004-02-24IPC C09K3/14
研磨用組合物之製造方法
霓塔哈斯股份有限公司
案號 0931034922004-02-13IPC C09K3/14
摩擦材料組成物以及使用此摩擦材料組成物的摩擦材料
日立化成工業股份有限公司
案號 0931025772004-02-05IPC C09K3/14
選擇性障礙金屬拋光溶液
羅門哈斯電子材料ＣＭＰ控股公司
案號 0931015902004-01-20IPC C09K3/14
研磨液組合物
花王股份有限公司
案號 0931001402004-01-05IPC C09K3/14
用於金屬之化學機械平面化之組合物及方法
慧盛材料美國責任有限公司
案號 0931000612004-01-02IPC C09K3/14
氮化物之化學機械研磨漿液及其使用方法
海力士半導體股份有限公司
案號 0921367152003-12-24IPC C09K3/14
化學機械研磨液組合物及金屬膜的研磨方法
廣潤科技股份有限公司
案號 0921366622003-12-24IPC C09K3/14
研磨液組合物
花王股份有限公司
案號 0921362802003-12-19IPC C09K3/14
用於彩色光阻平坦化之研磨液
長興開發科技股份有限公司
案號 0921362552003-12-19IPC C09K3/14
研磨液組合物
花王股份有限公司
案號 0921361582003-12-19IPC C09K3/14
研磨液組合物
花王股份有限公司
案號 0921354202003-12-15IPC C09K3/14
研磨液組合物
花王股份有限公司
案號 0921353892003-12-15IPC C09K3/14
銅膜平坦化製程用之鈍化化學機械拋光組成物
恩特葛瑞斯股份有限公司
案號 0921346722003-12-09IPC C09K3/14
矽晶圓二次拋光用之漿液組成物
第一毛織股份有限公司
案號 0921346272003-12-09IPC C09K3/14
化學機械研磨漿液及其使用方法
美商恩特葛瑞斯股份有限公司
案號 0921325922003-11-20IPC C09K3/14
評估磨蝕用顆粒品質的方法，磨光方法及磨光玻璃用之磨蝕劑
清美化學股份有限公司
案號 0921324382003-11-19IPC C09K3/14
研磨泥漿之組成及使用此研磨泥漿之研磨方法
慧盛材料美國責任有限公司
案號 0921316762003-11-12IPC C09K3/14
研磨用組合物及清洗用組合物
福吉米股份有限公司
案號 0921313612003-11-10IPC C09K3/14