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由超高真空化學氣相沉積製造之應變矽型層及其中之裝置
萬國商業機器公司
申請案號
092102386
公告號
200401340
申請日期
2003-02-06
申請人
萬國商業機器公司
發明人
哈勒德 伊斯梅爾
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/205
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由超高真空化學氣相沉積製造之應變矽型層及其中之裝置 - 專利資訊 | NowTo 智財通