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專利資訊
使用單一光罩於多重蝕刻步驟的微影製程
中華映管股份有限公司
申請案號
092102802
公告號
200415701
申請日期
2003-02-11
申請人
中華映管股份有限公司
發明人
劉大有
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/027
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