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專利資訊
用以製造半導體裝置之化學氣相沉積設備的噴頭
周星工程股份有限公司
申請案號
092105554
公告號
200304958
申請日期
2003-03-13
申請人
周星工程股份有限公司
發明人
李承善
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
C23C16/455
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