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具有以氟氣進行清除處理之機構之CVD裝置及CVD裝置之以氟氣進行清除處理之方法

日商佳能安內華股份有限公司

申請案號
092105992
公告號
200401047
申請日期
2003-03-19
申請人
日商佳能安內華股份有限公司
發明人
別府達郎
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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具有以氟氣進行清除處理之機構之CVD裝置及CVD裝置之以氟氣進行清除處理之方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通