IPC C23C16/44 專利列表
共 22 筆結果
提昇化學蒸氣沈積薄膜的沈積速率的方法
氣體產品及化學品股份公司
案號 0931085752004-03-29IPC C23C16/44
使用矽氧烷形成二氧化矽膜之方法
三星電子股份有限公司
案號 0931047202004-02-25IPC C23C16/44
利用旋塗玻璃沉積與化學氣相沉積結合之間隙填充製程
應用材料股份有限公司
案號 0931023422004-02-02IPC C23C16/44
可調式氣體分配板組件
應用材料股份有限公司
案號 0931003762004-01-07IPC C23C16/44
於化學氣相沈積系統中降低微粒形成的方法與氮氧化矽薄膜的形成方法
旺宏電子股份有限公司
案號 0931001962004-01-06IPC C23C16/448
使用電漿化學氣相沉積（PＣＶＤ）之薄膜形成方法及裝置
東京威力科創股份有限公司
案號 0921344592003-12-04IPC C23C16/44
於原子層沉積及化學氣相沉積中具有改善均勻性與重覆性之鈍化方法
傑納斯公司
案號 0921273292003-10-02IPC C23C16/44
成膜裝置
愛沃特股份有限公司
案號 0921250932003-09-10IPC C23C16/44
用以形成具有高Ｋ值之介電膜的原子層沈積方法
艾斯摩美國股份有限公司
案號 0921195862003-07-17IPC C23C16/44
由固體前驅物製造蒸氣的方法以及以該方法處理基底之系統
ＡＳＭ國際股份有限公司
案號 0921163652003-06-17IPC C23C16/448
汽化器、使用該汽化器之各種裝置、以及汽化方法
渡邊商行股份有限公司
案號 0921145332003-05-29IPC C23C16/448
汽化器及用於汽化、供給之裝置
日本派歐尼股份有限公司
案號 0921125192003-05-08IPC C23C16/448
使用低蒸汽壓氣體前驅物將薄膜沉積於基材的方法及系統
瑪森科技公司
案號 0921088732003-04-17IPC C23C16/448
使用微波激發之沈積方法及沈積裝置
美光科技公司
案號 0921082382003-04-10IPC C23C16/448
氣源之輸送
晶圓大師股份有限公司
案號 0921081012003-04-09IPC C23C16/448
用於低介電薄膜的輸送聚合之製程模組
介電質系統股份有限公司
案號 0921078112003-04-04IPC C23C16/448
氣相有機材料沉積方法和使用該方法的氣相有機材料沉積裝置
高級網絡服務公司
案號 0921072662003-03-31IPC C23C16/44
具有以氟氣進行清除處理之機構之ＣＶＤ裝置及ＣＶＤ裝置之以氟氣進行清除處理之方法
日商佳能安內華股份有限公司
案號 0921059922003-03-19IPC C23C16/44
在基板上沉積薄膜之裝置
愛斯特隆公司
案號 0921055942003-03-14IPC C23C16/44
電鍍裝置及電鍍方法
大日本斯克琳製造股份有限公司
案號 0921028762003-02-12IPC C23C16/44