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運用淺溝隔離製程來製造半導體元件之方法

ＮＥＣ電子股份有限公司

申請案號
092106487
公告號
200305971
申請日期
2003-03-24
申請人
ＮＥＣ電子股份有限公司
發明人
高田祐一
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/76
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