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化學氣相沈積(CVD)裝置及使用該CVD裝置之CVD裝置的清潔方法

國立研究開發法人產業技術總合研究所

申請案號
092106732
公告號
200307055
申請日期
2003-03-26
申請人
國立研究開發法人產業技術總合研究所
發明人
坂井克夫
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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化學氣相沈積(CVD)裝置及使用該CVD裝置之CVD裝置的清潔方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通