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專利資訊
光刻設備及其半導體裝置製造方法
ASML荷蘭公司
申請案號
092106776
公告號
200402086
申請日期
2003-03-26
申請人
ASML荷蘭公司
發明人
雷文納斯 派特 貝克
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/027
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