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光學膜厚度控制方法,光學膜厚度控制裝置,電介質多層膜製造裝置,及使用此控制裝置或製造裝置而製造之電介質多層膜

愛發科股份有限公司

申請案號
092106852
公告號
200305710
申請日期
2003-03-25
申請人
愛發科股份有限公司
發明人
高橋晴夫
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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光學膜厚度控制方法,光學膜厚度控制裝置,電介質多層膜製造裝置,及使用此控制裝置或製造裝置而製造之電介質多層膜 - 專利資訊 | NowTo 智財通