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專利資訊
用於電漿反應室而具有減少金屬雜質濃度之矽部件
藍姆研究公司
申請案號
092108382
公告號
200402789
申請日期
2003-04-11
申請人
藍姆研究公司
發明人
達克辛 冷
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/306
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用於電漿反應室而具有減少金屬雜質濃度之矽部件 - 專利資訊 | NowTo 智財通