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專利資訊
避免孔隙產生之溝渠底氧化層形成方法
茂德科技股份有限公司
申請案號
092108472
公告號
200421491
申請日期
2003-04-11
申請人
茂德科技股份有限公司
發明人
賴世麒
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/336
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