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專利資訊
底切多層繞射結構之散射測量法
安格盛光電科技股份有限公司
申請案號
092108765
公告號
200307116
申請日期
2003-04-16
申請人
安格盛光電科技股份有限公司
發明人
麥克E 力陶
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
G01B11/24
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