IP

用於利用遠矩電漿以沈積薄膜在晶圓上之裝置及方法

圓益ＩＰＳ股份有限公司

申請案號
092108874
公告號
200307995
申請日期
2003-04-17
申請人
圓益ＩＰＳ股份有限公司
發明人
朴永薰
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/205
查看申請人公司資訊

本站使用 Cookie 進行流量分析，以提供更好的使用體驗。

用於利用遠矩電漿以沈積薄膜在晶圓上之裝置及方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通