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使用具前置數值孔徑控制之照射系統來改善微影裝置上的線寬控制之系統及方法

荷蘭商ＡＳＭＬ控股公司

申請案號
092108965
公告號
200307983
申請日期
2003-04-17
申請人
荷蘭商ＡＳＭＬ控股公司
發明人
史考特　柯斯頓
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/027
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使用具前置數值孔徑控制之照射系統來改善微影裝置上的線寬控制之系統及方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通