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垂直電晶體之閘極介電層與埋入帶擴散區域及其製作方法

南亞科技股份有限公司

申請案號
092112211
公告號
200425479
申請日期
2003-05-05
申請人
南亞科技股份有限公司
發明人
陳逸男
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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