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使用結合水溶液及CO2為主之低溫清潔技術於半導體晶圓表面之後CMP清潔方法

雷伏Ｎ　Ｐ　有限公司

申請案號
092113357
公告號
200405447
申請日期
2003-05-16
申請人
雷伏Ｎ　Ｐ　有限公司
發明人
蘇維克　貝那吉
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/302
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