IP
NowTo 智財通
EN
首頁
/
專利資訊
降低反窄通道效應之淺溝渠隔離製程
台灣積體電路製造股份有限公司
申請案號
092113971
公告號
200426976
申請日期
2003-05-23
申請人
台灣積體電路製造股份有限公司
發明人
許義明
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/76
查看申請人公司資訊
本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。
拒絕
接受
×
降低反窄通道效應之淺溝渠隔離製程 - 專利資訊 | NowTo 智財通