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專利資訊
改善半導體晶片沉積薄膜均勻度之電離子線圈及離子金屬電漿物理氣相沉積設備
台灣積體電路製造股份有限公司
申請案號
092115354
公告號
200428428
申請日期
2003-06-06
申請人
台灣積體電路製造股份有限公司
發明人
卓瑞木
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01F5/04
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