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IPC H01F5/04 專利列表

共 2 筆結果

用於低建構高度之利茲結線固定

皇家飛利浦電子股份有限公司

案號 0921283072003-10-13IPC H01F5/04

改善半導體晶片沉積薄膜均勻度之電離子線圈及離子金屬電漿物理氣相沉積設備

台灣積體電路製造股份有限公司

案號 0921153542003-06-06IPC H01F5/04

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