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專利資訊
控制摻雜碳之氧化物薄膜的蝕刻偏差之方法
英特爾公司
申請案號
092115682
公告號
200408004
申請日期
2003-06-10
申請人
英特爾公司
發明人
大衛H 葛瑞西斯
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/311
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