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印製鄰近大特徵之緊密空間中使用二次曝光以協助ＰＳＭ曝光

辛納普系統股份有限公司

申請案號
092115774
公告號
200405424
申請日期
2003-06-10
申請人
辛納普系統股份有限公司
發明人
克里斯多夫　皮瑞特
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/027
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