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可減少角落凹陷之溝渠式隔離元件的形成方法

上海宏力半導體製造有限公司

申請案號
092116084
公告號
200428573
申請日期
2003-06-13
申請人
上海宏力半導體製造有限公司
發明人
金平中
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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可減少角落凹陷之溝渠式隔離元件的形成方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通