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專利資訊
可避免產生扭曲效應之淺溝渠隔離元件製程
上海宏力半導體製造有限公司
申請案號
092116085
公告號
200428574
申請日期
2003-06-13
申請人
上海宏力半導體製造有限公司
發明人
冷德學
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/76
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可避免產生扭曲效應之淺溝渠隔離元件製程 - 專利資訊 | NowTo 智財通