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專利資訊
曝光方法、光罩製造方法、半導體裝置製造方法、及曝光裝置
新力股份有限公司
申請案號
092117288
公告號
200409196
申請日期
2003-06-25
申請人
新力股份有限公司
發明人
大沼英壽
資料更新日
2026-04-04
IPC 分類
H01L21/027
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