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用於氧化膜之化學機械研磨漿料及使用該漿料以形成金屬線接觸插塞之方法

海力士半導體股份有限公司

申請案號
092117813
公告號
200403331
申請日期
2003-06-30
申請人
海力士半導體股份有限公司
發明人
鄭鍾九
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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用於氧化膜之化學機械研磨漿料及使用該漿料以形成金屬線接觸插塞之方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通