IP

使用光學反射儀控制蝕刻輪廓中之刻痕或底切程度的方法

應用材料股份有限公司

申請案號
092118120
公告號
200402762
申請日期
2003-07-02
申請人
應用材料股份有限公司
發明人
史帝芬J 瓊斯
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

本站使用 Cookie 進行流量分析,以提供更好的使用體驗。

使用光學反射儀控制蝕刻輪廓中之刻痕或底切程度的方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通