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製造場效應電晶體之超淺接合的方法

應用材料股份有限公司

申請案號
092118121
公告號
200411766
申請日期
2003-07-02
申請人
應用材料股份有限公司
發明人
劉偉
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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製造場效應電晶體之超淺接合的方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通