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接觸孔洞之光學鄰近效應的修正方法、接觸孔洞之製程光罩的製造方法及其半導體裝置之製造方法

南亞科技股份有限公司

申請案號
092118168
公告號
200502678
申請日期
2003-07-03
申請人
南亞科技股份有限公司
發明人
呂燦
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

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接觸孔洞之光學鄰近效應的修正方法、接觸孔洞之製程光罩的製造方法及其半導體裝置之製造方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通