IPC G03F1/14 專利列表
共 33 筆結果
光罩用基板及其製造方法，與光罩胚板及其製造方法
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0931073802004-03-19IPC G03F1/14
平板顯示器（ＦＰＤ）光罩用膠膜黏貼裝置
松下精機股份有限公司
案號 0931030552004-02-10IPC G03F1/14
製作金屬遮罩的方法
鈺德科技股份有限公司
案號 0931023322004-02-02IPC G03F1/14
用在接觸孔遮罩之光學近似修正設計方法
ＡＳＭＬ遮蓋器具公司
案號 0931009032004-01-14IPC G03F1/14
全聚氟醚液體薄膜及使用全聚氟醚液體清除遮罩的方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0931009022004-01-14IPC G03F1/14
平版印刷光罩基底
ＨＯＹＡ股份有限公司
案號 0921366532003-12-24IPC G03F1/14
微影用光罩護層及其製作方法
信越化學工業股份有限公司
案號 0921309952003-11-05IPC G03F1/14
測試光罩結構
南亞科技股份有限公司
案號 0921287792003-10-17IPC G03F1/14
薄膜及具使用薄膜之清洗膜對標度線間隙之標度線-膜裝置
密科理股份有限公司
案號 0921273232003-10-02IPC G03F1/14
光罩、曝光裝置及曝光方法
尼康股份有限公司
案號 0921242042003-09-02IPC G03F1/14
在晶圓上同時形成凸塊開孔與周邊缺口之光罩
日月光半導體製造股份有限公司
案號 0921221352003-08-12IPC G03F1/14
光罩護膜
旭硝子股份有限公司
案號 0921219082003-08-08IPC G03F1/14
用於與雙極照明技術共同使用之定向相依屏蔽
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921204432003-07-25IPC G03F1/14
具有雙嵌附層之減光型相移光罩及其製作方法
台灣積體電路製造股份有限公司
案號 0921195042003-07-17IPC G03F1/14
接觸孔洞之光學鄰近效應的修正方法、接觸孔洞之製程光罩的製造方法及其半導體裝置之製造方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921181682003-07-03IPC G03F1/14
減少透鏡像差之光罩與方法
南亞科技股份有限公司
案號 0921120102003-05-01IPC G03F1/14
具有照度偏光控制的光罩
旺宏電子股份有限公司
案號 0921086142003-04-15IPC G03F1/14
大面積光罩以及具有此大面積光罩之曝光系統
顯像製造服務股份有限公司
案號 0921073452003-04-01IPC G03F1/14
光罩保管裝置及曝光裝置
尼康股份有限公司
案號 0921055912003-03-14IPC G03F1/14
用於微影之光罩，製作光罩之方法，微影裝置，及裝置製造方法
ＡＳＭＬ荷蘭公司
案號 0921048102003-03-06IPC G03F1/14