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利用氟化氬（ＡｒＦ）曝射光源製造半導體裝置之方法

海力士半導體股份有限公司

申請案號
092118845
公告號
200411336
申請日期
2003-07-10
申請人
海力士半導體股份有限公司
發明人
李聖權
資料更新日
2026-04-04

IPC 分類

H01L21/027
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利用氟化氬（ＡｒＦ）曝射光源製造半導體裝置之方法 - 專利資訊 | NowTo 智財通